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聚焦环
Focus Ring
聚焦环
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聚焦环
聚焦环
聚焦环
主要特点

优异的耐离子侵蚀能力:更长的使用寿命,能降低维护成本。

良好的热稳定性:可避免因工作过程中的冷热循环产生变形或开裂,从而提升设备整体的可靠性与寿命。

优良的机械性能:耐受机械冲击、耐磨损,保证结构完整性。

Product Introduction

产品介绍

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聚集环(Focus Ring)是用于半导体蚀刻工艺中,围绕在晶圆外围。工作时环上施加电压,引导并聚焦等离子体均匀分布,以保证工艺精度和均匀性。

Main Appliction

应用场景

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主要应用于等离子刻蚀设备(ETCH)。

Performance Parameters

性能参数

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性能指标 数值 说明
纯度 >99.999% GDMS
密度 3.21g/cm³  
弹性模量 440-470GPa  
弯曲强度 >400MPa  
热膨胀系数 4.0-4.5x10⁻⁶/K 室温-1000度
热导率 >230W/(m·K)  
体积电阻率 10⁻²-10⁴Ω·cm